阿里店铺|中国供应商|English   宝鸡市中扬金属材料有限公司官网!

钛标准件专业供应商

钛锻件.钛标准件中国钛谷品牌供应商
全国服务热线

0917-339677713689170030

微信公众号 钛合金螺丝生产厂家微信公众号

首页 >> 新闻资讯 >> 技术资料

钛靶材的主要性能

发布时间:2021-05-02 21:31:26 浏览次数 :

钛靶主要分为圆靶、板靶、管靶,中扬金属常供牌号为TA0,TA1,TA2,TC4,TC6,TC11,GR5,TA7 。钛靶材主要应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、

溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等。有关钛靶材的性能,中扬金属分享如下:

钛靶材

1、纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6", 8"发展到12", 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

2、杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

3、密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

4、晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。


相关链接

Copyright @ 2020 宝鸡市中扬金属材料有限公司 版权所有    ICP备案号:陕ICP备17004556号    在线统计
@ 2020 宝鸡市中扬金属材料有限公司 版权所有
在线客服
客服电话

全国免费服务热线
0917 - 3396777
扫一扫

zy-titanium.com
中扬金属手机网

返回顶部