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溅射钛靶材的主要应用领域

发布时间:2020-12-12 20:36:55 浏览次数 :

溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

1、信息存储产业

随着IT产业的不断发展,世界对记录介质的需求量越来越大,记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中,使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘等。制造这些数据存储产品,需要使用具有特殊结晶性与特殊成分的高品质靶材,常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀有金属、介质材料等。

钛靶

2、集成电路产业

集成电路用钛靶材在全球靶材市场占较大份额,其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等。其中薄膜电阻器是薄膜混合集成电路中用量最多的元件,而电阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

3、平面显示器产业

平面显示器包括:(1) 液晶显示(LCD) ; (2) 等离子体显示器(PDP) ; (3) 场致发光显示器(E-L) ; (4)场发射显示器(FED) 。目前, 在平面显示器市场中以液晶显示为主,广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器到高清晰电视。目前,平面显示器的薄膜多采用溅射成形。溅射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。

纯钛靶

4、溅射靶材在其他领域中的应用

1)大面积玻璃镀膜

磁控溅射是目前制备幕墙玻璃的最好的方法,但射频电源,溅射靶的材料和制作价格都十分昂贵,磁控溅射的成本是比较高的。

玻璃镀膜采用的靶材:

A)纯金属。如金,银,钽,钛,铜,铬,镍,锡,硅。

B)金属合金。如钢锡、钴铬,镍铬,不锈钢,特殊

C)电导和绝缘氧化物。如ITO, SiO2

纯钛靶

镀膜过程:将惰性气体注入真空室,在电场中被电离后产生带正电荷的离子和自由电子。正离子被吸收至装在负电位,阴极顶面的靶上。气体、离子将靶材表面上的原子碰出来,使这些原子凝聚在玻璃基片上。采用磁场捕集自由电子可得到高的溅射率,被捕集的自由电子周而复始地产生高离子密度,从而得到较高的膜层沉积速率。磁控增强阴极的溅射率较常规二极溅射高5至10倍,内装有水冷却回路保证均匀地降低靶材的温度。纯金属和合金在惰性气体的气氛中溅射;纯金属靶可在反应性气体的气氛中溅射。

2)汽车后视镜镀膜

汽车后视镜主要用靶材:Cr、A 1、SnO, (反应性) 、TiO2, 通常的后视镜是采用蒸发镀铝工艺, 由于铝膜反射率较高,约87%,吸收很小,因此反射光很耀眼。而采用磁控溅射法镀制特殊膜系,反射率比铝膜稍低且在可见光范围内对红色光有一定的吸收,给予镜子一种诱人的“雾蓝色”,其反射光显得非常柔和清晰。

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