产品名称：钛靶材、钛板靶、钛管靶牌号：TA1/GR1，TA2/GR2品牌厂家：中扬金属主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块) 密度：4.51或4.50牌号：TA0， TA1，...

钛旋转靶是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。钛靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器...

钛靶主要分为圆靶、板靶、管靶，中扬金属常供牌号为TA0，TA1，TA2，TC4，TC6，TC11，GR5，TA7 。钛靶材主要应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃...

名称：钛靶材、钛多弧靶、钛平面靶、钛旋转靶牌号：TA0， TA1， TA2， GR1， GR2 技术条件：符合GB/T 2695-1996， ASTM B 348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射...

新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的...

造的金属镀工艺中，日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等，供给全世界的半导体厂家。高纯溅射钛靶材主要是用做铝配线的...

磁控溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、平面显示屏和家装汽车行业装饰镀膜领域，如玻璃装饰镀膜和轮毂装饰镀膜等。为了更能接近磁控溅射靶材的使用者，以便提供更...

高纯钛作为电子信息领域重要的功能薄膜材料，近年来随着我国集成电路、平面显示、太阳能等产业的快速发展需求量快速上升。磁控溅射技术（PVD）技术是制备薄膜材料的关键技术之一，...

目前，我国已发展成世界钛工业大国，钛产能与产量均位居世界首位，然而国内钛材的整体技术含量较低、产品附加值低、产能严重过剩，钛工业面临“大而不强” 的处境，加大钛材深加工及...

一年一度的最重要节日-春节，假期已经结束，企业陆续开工上班，春节期间国内钛市场有哪些新动向呢？一、本周钛原料市场1、钛矿市场春节期间国内钛矿市场价格稳定，各企业放假过年，价格...

近年来，随着镀膜技术突飞猛进的发展，溅射靶材市场需求量日趋旺盛。那么这时候就有朋友有疑问了：溅射靶材的应用有哪些?中扬金属将溅射钛靶材的应用，分享如下：1、装饰镀膜装饰镀膜...

在微电子半导体集成电路，薄膜混合集成电路， 片式元器件，特别是光盘、磁盘及液晶平面显示器 LCD等技术领域 需使用各种性能各异，要求不同的溅射靶材，例如各种光碟、液晶显示器LCD...

品名：钛靶牌号：TA1产地：宝鸡主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块)度：4.51或4.50牌号：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 圆靶：60/65/70/80/85/...

产品名称：铌溅射靶材材料：纯铌，铌合金牌号：R04200，R04210，Nb1，Nb2，NbZr1密度：≥8.6g/cm3熔点：2468℃。真空电子束熔炼工艺生产铌板，是先将未锻压过的铌条通过真空电子束熔炼炉熔炼成铌...

溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品...

产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶：030--2000mm，厚度3.0mm--300mm；2.板靶：长度：200-500mm宽度：100-230mm厚度：3--40mm3.靶材：直径：30-200mm厚度：5-20mm长度：500-2000mm4.可定制牌号钛：TAOT...

中扬金属常年供应钛锻件、钛标准件、钛环、钛靶材等，供货规格如下：钛棒：规格Ф30～200）×≤3000；Ф6×60）×≤4000钛板：规格厚×宽×长) 0.3～0.5×400～600×1500 、0.6～0.8×400～800×12...

TC4钛合金具有优良的耐蚀性、小的密度、高的比强度及较好的韧性和焊接性等一系列优点，在航空航天、石油化工、造船、汽车，医药等部门都得到成功的应用。中扬金属结合TC4钛合金...

一、一、规格、牌号产品名称规格（mm）状态牌 号执行标准钛管板 钛加工件锻件外径(300～1500mm) Χ高度(40～100mm) 按图纸/客户要求加工热锻、机械加工T...

产品名称：钛靶、高纯靶、钛铌靶、锆靶、镍靶、铬靶（热等静压）、铌靶、铌合金靶、钽靶牌号：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1纯度：99.9%-99.99%规格：Φ100...