高纯钛作为电子信息领域重要的功能薄膜材料，近年来随着我国集成电路、平面显示、太阳能等产业的快速发展需求量快速上升。磁控溅射技术(PVD)技术是制备薄膜材料的关键技术之...

1842年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象，由于人们对溅射机理缺乏深入了解和溅射薄膜技术发展缓慢，商业化的磁控溅射设备直到1970年才逐渐应用于实验室和小型生产。自20世纪...

近年来，随着镀膜技术突飞猛进的发展，溅射靶材市场需求量日趋旺盛。溅射靶材的应用有哪些？凯泽金属将溅射钛靶材的应用，分享如下：1、装饰镀膜装饰镀膜主要是指手机、手表、眼镜、...

新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的...

众所周知，钛靶材的技术发展趋势与靶材的制备发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。中扬金属结合钛靶材的制备工艺，将其操作流程，整...

1、前 言随着我国经济持续快速增长，人们的生活水平也得到了日益提高，居民消费结构也发生了显著的变化，由过去的基本需求吃、穿、用，升级为现在较高层次的住、行、休闲等，尤其是汽...

我国地域广袤、资源丰富，有色金属探明储备量大 ，多位居世界前列。钛是一种重要的有色金属 ，具有密度小 、强度高 、耐高温 、耐腐蚀等优 良特性 ，目前广泛应用于生产生活中的各...

产品名称：真空镀膜用钛靶材产 地：陕西宝鸡材 质：Ti牌号：TA1、GR1纯 度：99.99%晶粒度：<100um制作工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工。应用领域：真空镀膜钛靶材广...

钛被称为继钢、铝之后而崛起的“第三金属”，因其性能优良，广泛用于航空航天、化工冶金、能源电力、船舶和海洋工程、汽车、建筑、体育用品及医疗器械等行业。目前，世界上能进行...

目前，我国已发展成世界钛工业大国，钛产能与产量均位居世界首位，然而国内钛材的整体技术含量较低、产品附加值低、产能严重过剩，钛工业面临“大而不强” 的处境，加大钛材深加工及...

1 前 言随着我国经济持续快速增长，人们的生活水平也得到了日益提高，居民消费结构也发生了显著的变化，由过去的基本需求吃、穿、用，升级为现在较高层次的住、行、休闲等，尤其是汽...

产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶：Ø30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：长度：200-500mm宽度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直径：30-200mm厚度：5-20mm长度：500-2000m...

产品名称：钛靶材、钛板靶、钛管靶牌号：TA1/GR1，TA2/GR2品牌厂家：中扬金属主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块) 密度：4.51或4.50牌号：TA0， TA1，...

钛旋转靶是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。钛靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器...

钛靶主要分为圆靶、板靶、管靶，中扬金属常供牌号为TA0，TA1，TA2，TC4，TC6，TC11，GR5，TA7 。钛靶材主要应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃...

名称：钛靶材、钛多弧靶、钛平面靶、钛旋转靶牌号：TA0， TA1， TA2， GR1， GR2 技术条件：符合GB/T 2695-1996， ASTM B 348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射...

新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的...

造的金属镀工艺中，日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等，供给全世界的半导体厂家。高纯溅射钛靶材主要是用做铝配线的...

磁控溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、平面显示屏和家装汽车行业装饰镀膜领域，如玻璃装饰镀膜和轮毂装饰镀膜等。为了更能接近磁控溅射靶材的使用者，以便提供更...

高纯钛作为电子信息领域重要的功能薄膜材料，近年来随着我国集成电路、平面显示、太阳能等产业的快速发展需求量快速上升。磁控溅射技术（PVD）技术是制备薄膜材料的关键技术之一，...