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高纯钛靶 真空镀膜溅射钛靶块

材质:TA0, TAl, TA2, GRl, GR2

执行标准: GB/T 2695-1996 , ASTM B348-97

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发布日期: 2021-02-19 14:55:16

全国热线: 0917-3396777

详细描述 / Detailed description

名称:钛靶材、钛多弧靶、钛平面靶、钛旋转靶

牌号: TA0, TAl, TA2, GRl, GR2

执行标准:符合GB/T 2695-1996 , ASTM B348-97

用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射踱膜、工件表面涂层,玻璃踱膜工业等。

宝鸡市中扬金属材料有限公司专业生产真空镀膜用的各种钛靶、钛圆靶、钛管靶、钛饼靶、平面靶、钛铝靶ta1、ta2、tc4材质,规格可根据厂家要求制定, 纯度可达99.9%,镀膜应用中成膜均匀,膜层耐腐蚀耐摩性好,交货及时,保证质量,价格优惠.欢迎来电咨询。

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